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的辅助设计方法，包括下列步骤：决定曝光机光源的曝光波长；通过曝光机的相扰度、制作工艺整合参数与数值光圈决定最小解像线宽；将上述最小解像线宽通过图案缩小比例还原光掩模上的最小线宽；以及在光掩模上，利用小于上述最小线宽的线型图案连接光掩模中的多个接触孔洞。
主权项
权利要求书
1.一种接触孔洞光刻的辅助设计方法，包括下列步骤：
决定曝光机光源的曝光波长；
通过曝光机的相扰度、制作工艺整合参数与数值光圈决定最小解像线
宽；
将上述最小解像线宽通过图案缩小比例还原光掩模上的最小线宽；以及
在光掩模上，利用小于上述最小线宽的线型图案连接光掩模中的多个接
触孔洞。
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