相关文章  
  • 半导体装置
  • 半导体晶片表面保护用粘结膜及使用其保护该晶片方法
  • 一种制造含有复合缓冲层半导体器件的方法
  • 抛光方法和设备
  • 电解抛光方法
  • 氟硅玻璃层表面处理的方法
  • 一种用于制造半导体组件的干式蚀刻方法
  • 超薄绝缘体基外延硅金属氧化物半导体晶体管的阈值电压调节方法
  • 半导体元件的安装方法
  • 连接一传导线迹至一半导体芯片的方法
  •   推荐  
      科普之友首页   专利     科普      动物      植物        天文   考古   前沿科技
     您现在的位置在:  首页>>专利 >>专利推广

    微细图形检查装置和方法、CD-SEM的管理装置和方法<%=id%>

    种微细图形检查装置,具备:第1运算单元,用来接受向在与要形成被检查图形的基板同一基板上边以不同的断面形状形成的多个测试图形照射电子束得到的第1个2次电子信号的数据,和上述测试图形的断面的轮廓形状数据,把上述第1个2次电子信号变数分离成把上述断面的轮廓形状包括在自变数内的第1函数,和根据每个构成上述测试图形的材质用阶跃函数定义的第2函数,和表示信号的失真的大小的第3函数;存储单元,具有存放由该第1运算单元得到的上述第1到第3函数的第1存储区域;第2运算单元,用来接受向上述被检查图形照射上述电子束得到的第2个2次电子信号,执行用存放在上述存储单元中的上述第1到第3函数从上述第2个电子信号中调出以上述被检查图形的断面形状为基础的成分的运算。
    主权项
      权利要求书 1.一种微细图形检查装置,具备: 第1运算单元,用来接受向在与要形成被检查图形的基板同一基板上 边以不同的断面形状形成的多个测试图形照射电子束得到的第1个2次电 子信号的数据,和上述测试图形的断面的轮廓形状数据,把上述第1个2 次电子信号变数分离成把上述断面的轮廓形状包括在自变数内的第1函 数,和根据每个构成上述测试图形的材质用阶跃函数定义的第2函数,和 表示信号的失真的大小的第3函数; 存储单元,具有存放由该第1运算单元得到的上述第1到第3函数的 第1存储区域; 第2运算单元,用来接受向上述被检查图形照射上述电子束得到的第 2个2次电子信号,执行用存放在上述存储单元中的上述第1到第3函数 从上述第2个电子信号中调出以上述被检查图形的断面形状为基础的成分 的运算。
         

          设为首页       |       加入收藏       |       广告服务       |       友情链接       |       版权申明      

    Copyriht 2007 - 2008 ©  科普之友 All right reserved