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在原子层沉积过程中使寄生化学气相沉积最小化的装置和原理<%=id%> |
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摘要
公开了在层积中,例如原子层沉积(ALD)和其它顺序化学沉积(CVD)过程中,避免沉积膜的污染的新方法和装置,其中ALD膜的CVD沉积污染通过使用一种有效地使污染物气体在通入ALD腔室之前在气体输送装置的壁元件上沉积的预热反应室来防止。
主权项
权利要求书
1.在原子层沉积过程中将寄生化学气相沉积减至最小的方法,其
包括如下步骤:
(a)在气体源和所要镀覆的基体之间设置预反应室;和
(b)在所述预反应室中将一表面加热至足以使污染物元素通过CVD
反应沉积在所述加热表面上的温度。
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