具有载体的转印式铜箔制造方法<%=id%>

气相沉积方式使所述第一表面形成一金属介质层；(4)对所述金属介质层表面化学电镀铜以形成一铜箔层；及(5)对所述铜箔层表面进行粗化处理；而借此产出附着于载体上的超薄铜箔。采用本发明的上述方案，可视需要生产超薄的铜箔，而可适用各种规格需求并便于其后蚀刻及穿孔作业，并可直接供应无铜箔电镀设备的厂商使用，而所述铜箔的载具则可减少污染并吸收钻孔作业产生的热量。
主权项
　权利要求书 1.一种具有载体的转印式铜箔制造方法，其特征在于包括下述步骤： (1)提供一载体，所述载体具有一第一表面； (2)于所述载体的第一表面形成一金属介质层； (3)于所述金属介质层表面化学电镀铜，以形成一附着于所述载体的铜箔层。

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