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    用于氧化锆和氧化铪薄膜沉积的前驱体<%=id%>

    一种用于制备通过化学气相沉积方法形成的薄膜的前驱体的方法,其包括将ZCl4同H(tmhd)3溶剂和类如苯的烃溶剂混合,形成一种溶液(其中Z为一种从包含铪和锆在内的元素组中选取的元素);将该溶液在氩气中回流12小时;藉助真空除去溶剂,从而产生一种固体化合物;将该化合物在0.1mm Hg的近真空状态和200℃下升华;还提出一种用于化学气相沉积方法的ZOx前驱体,其包括从包含ZCI(tmhd)3和ZCl2(tmhd)2在内的化合物组中选取的一种含Z化合物。
    主权项
      权利要求书 1.一种用于制备通过化学气相沉积方法形成的薄膜的前驱体的方 法,其包括: 将ZCl4同H(tmhd)3溶剂和烃溶剂混合形成一种溶液(其中,Z 为一种从包含铪和锆在内的元素组中选取的元素); 在氩气中将该溶液回流12小时; 藉助真空除去溶剂,从而产生一种固体化合物;以及 在0.1mmHg的近真空状态和200℃下使该化合物升华。
         

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