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    晶界层半导体陶瓷电容器制造方法<%=id%>


    颁 证 日:
    优 先 权:
    申请(专利权)人: 广东南方宏明电子科技股份有限公司
    地 址: 523077广东省东莞市南城科技工业园
    发 明 (设计)人: 章士瀛;王振平;王守士
    国 际 申 请:
    国 际 公 布:
    进入国家日期:
    专利 代理 机构:
    代 理 人:
    摘要
      本发明涉及电子元件技术领域,晶界层半导体陶瓷电容器按下列方法制成:①按照配方范围:0.95~1.05mol的SrCO3,0.95~1.05mol的TiO2,0.001~0.01mol的 2O5配制瓷料。②球磨成粉状,粒度<1um。③在1150℃~1250℃温度下煅烧。④在上述煅烧后的粉料中添加0.001~0.01mol的MnCO3及按上述煅烧后的粉料的重量比为0.5~5wt%的助熔剂 O、Bi2O3、B2O3、CuO。⑤球磨成粉状,粒度<1um。⑥在球磨后的瓷料中,混合与其重量比为18~23wt%的聚乙烯醇溶液,然后轧膜成型。⑦冲片。⑧排胶。⑨在1210℃~1260℃温度下,在0.05~0.75mol的H2与0.95~0.25mol的N2混合流动气体中进行还原烧结4小时,然后将温度降至950℃~1100℃,在普通大气中处理30~60分钟。⑩被银电极。本发明原料成本低,总体工艺简单,低温一次烧成,介电性能参数优良,更重要的是它适宜产业化生产。
    主权项
      权利要求书 1.晶界层半导体陶瓷电容器制造方法,其特征在于该方法按下 列步骤依次完成: ①按照配方范围:0.95~1.05mol的SrCO3,0.95~1.05mol的TiO2, 0.001~0.01mol的 2O5配制烧块。 ②球磨成粉状,粒度<1um。 ③在1150℃~1250℃温度下煅烧。 ④在上述煅烧后的粉料中添加0.001~0.01mol的MnCO3及按上述 煅烧后的粉料的重量比为0.5~5wt%的助熔剂 O、Bi2O3、B2O3、CuO。 ⑤球磨成粉状,粒度<1um。 ⑥在球磨后的瓷料中,混合与其重量比为18~23wt%的聚乙烯醇 溶液,然后轧膜成型。 ⑦冲片。 ⑧排胶。 ⑨在1210℃~1260℃温度下,在0.05~0.75mol的H2与 0.95~0.25mol的N2混合流动气体中进行还原烧结4小时,然后将温 度降至950℃~1100℃,在普通大气中处理30~60分钟。 ⑩被银电极。
         

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