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颁 证 日：
优 先 权：
1999.11.10 US 09/438,069;2000.4.12 US 09/547,645
申请(专利权)人：
通用电气公司
地 址：
美国纽约州
发 明 (设计)人：
R·J·佩里;D·A·里西奥
国 际 申 请：
CT/US00/29537 2000.10.26
国 际 公 布：
WO01/34613 英 2001.5.17
进入国家日期：
2002.05.10
专利 代理 机构：
中国专利代理(香港)有限公司
代 理 人：
周慧敏;谭明胜
摘要
本发明公开了含杂质的硅氧烷干洗溶剂的稳定化方法，包括：将硅氧烷溶剂与吸附剂、中和剂或它们的组合体相接触，使溶剂纯化，并防止再平衡作用和聚合作用，然后分离出硅氧烷溶剂。
主权项
权利要求书
1.一种硅氧烷干洗溶剂的稳定化方法，该溶剂可以含有不良酸性
杂质，能够引起环状硅氧烷的形成，该方法包括：将硅氧烷干洗溶剂
与吸附剂、中和剂或它们的组合体相接触，并将该硅氧烷溶剂与吸附
剂分离。
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