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br>分 类 号：
82B3/00;H01L21/00
颁 证 日：
优 先 权：
申请(专利权)人：
中国科学院光电技术研究所
地 址：
610209四川省成都市双流350信箱
发 明 (设计)人：
石建平;陈旭南;罗先刚;高洪涛;陈献忠
国 际 申 请：
国 际 公 布：
进入国家日期：
专利 代理 机构：
成都信博专利代理有限责任公司
代 理 人：
张一红;王庆理
摘要
本发明是一种用原子制作任意超微细图形的装置，由原子束发生器、真空室、通电线圈、激光束、计算全息编码片和基片等构成。它利用磁场、激光场使准直原子束冷却、减速，形成准单色德布罗意波；使准单色德布罗意波通过计算全息编码片孔产生衍射和干涉，在工件台上直接堆积制作出任意形状的超微细图形。该装置克服了现有技术的缺陷，可广泛应用于制作包含纳米图形的超微细三维图形、纳米材料和纳米器件等的研究和开发。
主权项
权利要求书
1、一种制作超微细图形的装置，包括原子束发生器(1)、真空室
(9)、基片(14)和工件台(15)，其特征在于：真空室(9)内有通电线圈
(4)、第一激光束(5)和第二激光束(7)、计算全息编码片(10)；原子
束流(3)射入真空工作室(9)，通过通电线圈(4)产生的磁场、第一激光
束(5)和第二激光束(7)交叉形成的磁光陷阱区(6)、以及磁光陷阱区
(6)下面的计算全息编码片(10)，在工件台(15)的基片(14)上形成任
意超微细图形(13)。
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