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    溅镀靶及其制造方法<%=id%>


    分 类 号: C23C14/34;C23C14/08
    颁 证 日:
    优 先 权: 2001.8.16 JP 2001-247307;2001.8.30 JP 2001-260781
    申请(专利权)人: 三井金属矿业株式会社
    地 址: 日本东京
    发 明 (设计)人: 渡边弘;高桥诚一郎;山崎贵史
    国 际 申 请:
    国 际 公 布:
    进入国家日期:
    专利 代理 机构: 北京纪凯知识产权代理有限公司
    代 理 人: 戈泊;程伟
    摘要
      本发明提供一种溅镀靶的制造方法,通过由宽度为100μs以下的脉冲输出的激光进行表面处理,经升华等除去在研削加工时生成的毛刺和研削粉末、特别是粉尘和尘埃等,因此可以使靶子开始使用时所产生的初期电弧显著降低,并能够提高初期稳定性,以低成本进行溅镀靶的制造。
    主权项
      权利要求书 1.一种溅镀靶,其特征在于:由宽度为100μs以下的脉冲输出的激 光进行表面处理。
         

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