薄膜形成方法、光学膜、偏振膜及图像显示方法<%=id%>

分类号： C23C16/50;C23C16/54 32B23/00;G02B17/08;G02F1/1335;G02F1/1337
颁证日：
优先权： 2001.4.25 JP 127649/2001
申请(专利权)人：柯尼卡株式会社
地址：日本东京都
发明 (设计)人：村上隆;福田和浩
国际申请：
国际公布：
进入国家日期：
专利代理机构：中国国际贸易促进委员会专利商标事务所
代理人：冯谱
摘要
　公开了一种形成一层或多层的方法，该方法包括步骤：把一个具有一个第一表面和一个在相对第一表面的侧上的第二表面的基片，运送到在彼此面对着的一个第一电极与一个第二电极之间形成的一个间隙，第二表面具有不大于0.9的动摩擦系数；和使基片的第一表面经受等离子放电处理，以在大气压力下或近似在大气压力下在向间隙供给活性气体的同时形成该层。
主权项
　权利要求书 1.一种形成一层或多层的方法，该方法包括步骤： (a)把一个具有一个第一表面和一个在相对第一表面的侧上的第二表面的基片，运送到在彼此面对着的一个第一电极与一个第二电极之间形成的一个间隙，第二表面具有不大于0.9的动摩擦系数；和 (b)使基片的第一表面经受等离子放电处理，以在大气压力下或近似在大气压力下在向间隙供给活性气体的同时形成该层。

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