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    在含水体系中抑制金属腐蚀的方法<%=id%>


    颁 证 日:
    优 先 权: 2001.9.4 US 60/316,340
    申请(专利权)人: 罗姆和哈斯公司
    地 址: 美国宾夕法尼亚
    发 明 (设计)人: T·赫施;W·M·罕 ·温斯特恩
    国 际 申 请:
    国 际 公 布:
    进入国家日期:
    专利 代理 机构: 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所
    代 理 人: 邓毅
    摘要
      本发明公开了引入杂环基团的聚合物腐蚀抑制组合物的应用。该聚合物在金属元件上形成对含水体系的保护隔绝层并在宽pH范围内在金属表面上保持有效。另外,该聚合物对氧化杀虫剂有耐性,且在重复或长期暴露于腐蚀剂时基本上不透过。
    主权项
      权利要求书 1.一种用于抑制与含水体系接触的金属元件的腐蚀的方法,其包括向 该体系中加入有效量的一种或多种聚合物的步骤,该聚合物包含: i)至少一种选自具有结构式Ia的官能化酰亚胺组分,具有结构式Ib的 官能化酰胺组分以及结构式Ia和Ib的组合的重复单元: 结构式Ia 结构式Ib 其中n是0或1;R和R1独立地选自氢,甲基,和C2-C4烷基;杂环包括具有一个 或多个选自N,O,S和其组合的杂原子的不饱和或芳族杂环,所述杂环通过 作为杂环一部分的杂原子或杂环的碳原子化学键接到氮原子上;R3选自氢, 甲基,乙基,C3-C18支化和直链烷基和链烯基基团;和R4选自H,CH3,C2H5,C6H5 和C3-C18支化和直链烷基和C3-C18链烯基基团; ii)至少一种选自马来酸酐,衣康酸酐,环己-4-烯基四氢邻苯二甲酸酐, 和具有结构式II的单体的烯键式不饱和单体组分: 结构式II CH(R5)=C(R6)(R7) 其中R5选自氢,苯基,甲基,乙基,C3-C18支化和直链烷基和链烯基基团;R6独 立地选自氢,甲基,乙基,苯基,C3-C18支化和直链烷基和链烯基基团,OR8和 CH2OR8基团,其中R8是乙酸根,缩水甘油基,甲基,乙基,C3-C18支化和直链 烷基和链烯基基团,和具有结构式[CH2CH(Ra)O]mRb的基团,其中Ra是氢,甲 基,乙基,和苯基,m是整数1-20且Rb独立地为氢,甲基,乙基,苯基和苄基; 和R7独立地选自H,CH3,C2H5,CN,COR9基团,其中R9是OH,NH2,OR8基团,其中 2 R8是前述的基团和NRcRd基团,其中Rc和Rd是相同的基团或不同的基团,是 5-元或6-元环体系的一部分,氢,羟基甲基,甲氧基甲基,乙基和C3-C18支化 和直链烷基和链烯基基团;和 iii)任选的一个或多个端基,选自引发剂片断,链转移片断,溶剂片断 和其组合。 3
         

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