液体处理装置和液体处理方法<%=id%>

;D05B1/00
颁证日：
优先权： 2001.7.5 JP 204169/2001
申请(专利权)人：东京毅力科创株式会社
地址：日本东京都
发明 (设计)人：佐田彻也;宫崎一仁
国际申请：
国际公布：
进入国家日期：
专利代理机构：中国专利代理(香港)有限公司
代理人：王岳;王忠忠
摘要
　提供一种不增大印刷台面(footprint)，即便是大型衬底也可在整个衬底上进行均匀的液体处理的液体处理装置。显影处理单元(DEV)24具有按大致水平状态在一个方向上运送LCD衬底G的滚动运送机构14；向LCD衬底G上喷出显影液的主显影液喷嘴51a和副显影液喷嘴51b；使主显影液喷嘴51a和副显影液喷嘴51b扫描过LCD衬底G的喷嘴移动机构60a。通过边驱动喷嘴移动机构60a使主显影液喷嘴51a和副显影液喷嘴51b扫描过LCD衬底G边从主显影液喷嘴51a和副显影液喷嘴51b向LCD衬底G喷出显影液，缩短显影液的液体盛装时间，在整个LCD衬底G上进行均匀的显影处理。
主权项
　权利要求书 1.一种液体处理装置，其特征是，具有按大致水平状态在一个方向上运送衬底的运送机构；和向通过所述运送机构运送的衬底表面喷出处理液的处理液喷嘴；使所述处理液喷嘴以规定速度在衬底上移动的喷嘴移动机构；一边通过所述喷嘴移动机构移动所述处理液喷嘴一边从所述处理液喷嘴喷出处理液，向衬底涂布处理液。

设为首页 | 加入收藏 | 广告服务 | 友情链接 | 版权申明