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5B11/00
颁 证 日：
优 先 权：
2001.8.13 JP 245227/2001
申请(专利权)人：
日新电机株式会社
地 址：
日本京都府
发 明 (设计)人：
石田修也
国 际 申 请：
国 际 公 布：
进入国家日期：
专利 代理 机构：
北京市柳沈律师事务所
代 理 人：
李晓舒;魏晓刚
摘要
吸持基体的方法和设备。一种基体吸持设备，包括有对基体进行静电吸持的静电吸盘，和向该静电吸盘施加直流吸持电压的直流电源。在对所述基体的吸持操作开始之后，所述吸持电压Vc的幅值相对于吸持时间按指数规律下降。这种对吸持电压变化的控制由一个控制装置来实现。
主权项
权利要求书
1.一种吸持基体的方法，用于这样一个基体吸持设备中，该基体吸持
设备具有对所述基体进行静电吸持的静电吸盘和向该静电吸盘施加吸持电
压的电源，该方法包括：
对所述吸持电压的幅值进行控制，以便在对所述基体的吸持操作开始
之后，所述吸持电压的幅值相对于吸持时间按指数规律下降。
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