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分 类 号:
H01L21/304
颁 证 日:
优 先 权:
2001.8.17 JP 247917/2001
申请(专利权)人:
株式会社迪斯科
地 址:
日本东京都
发 明 (设计)人:
沟本康隆;山中聪;土井功达;森俊
国 际 申 请:
国 际 公 布:
进入国家日期:
专利 代理 机构:
中国专利代理(香港)有限公司
代 理 人:
蔡民军;章社杲
摘要
一种消除机加工应变的设备,它通过使用一抛光工具对一工件的处理后的表面例如一半导体晶片的磨削后的背面进行抛光从而高效、高质量地消除该处理后的表面或磨削后的背面上的机加工应变。该设备包括处理后的表面的同时保持该工件的吸盘装置和对保持在吸盘装置上的工件的处理后的表面进行抛光的抛光装置。该抛光装置包括一抛光工具,使得转动中的抛光工具压靠工件的处理后的表面,从而抛光该处理后的表面。
主权项
权利要求书
1.一种消除机加工应变的设备,该设备通过抛光一工件的处理后
的表面消除该表面上的机加工应变,包括:
在暴露处理后的表面的同时保持该工件的吸盘装置;
工件输入/输出装置,其用于将要从该处理后的表面上消除机加工
应变的工件输入到该吸盘装置上和将已从该处理后的表面上消除机加
工应变的工件从该吸盘装置上的一位置输出;以及
对保持在吸盘装置上的工件的处理后的表面进行抛光的抛光装
置,
其中,吸盘装置可有选择地位于一工件输入/输出区和一抛光区,
当吸盘装置位于工件输入/输出区时,具有处理后的表面待消除机加工
应变的工件输入到吸盘装置上,然后将吸盘装置传送到抛光区,用抛
光装置对保持在吸盘装置上的工件的处理后的表面进行抛光,消除处
理后的表面的机加工应变,然后吸盘装置回到工件输入/输出区后工件
从吸盘装置上该位置输出;以及
抛光装置包括一转轴和一安装在该转轴上的抛光工具,转动中的
抛光工具压靠工件的处理后的表面,从而对处理后的表面抛光。
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