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    用于深紫外线辐射的光刻胶组合物<%=id%>


    分 类 号: G03F7/004;G03F7/039
    颁 证 日:
    优 先 权: 1999.12.7 US 09/455,872
    申请(专利权)人: 科莱恩金融(BVI)有限公司
    地 址: 英属维尔京群岛托尔托拉
    发 明 (设计)人: M·帕德马纳本;R·R·戴米尔
    国 际 申 请: CT/EP00/11495 2000.11.18
    国 际 公 布: WO01/42853 英 2001.6.14
    进入国家日期: 2002.06.06
    专利 代理 机构: 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所
    代 理 人: 陈季壮
    摘要
      本发明涉及在深紫外线区域敏感的新型光刻胶组合物,其中光刻胶对在光刻胶的处理环境中的碱污染物不敏感。
    主权项
      权利要求书 1.光刻胶组合物,包括以下物质的混合物: a)不溶于碱水溶液且包括至少一个酸不稳定基团的聚合物; b)在辐射时能够产生酸的化合物或化合物的混合物; c)选自硫鎓和碘鎓化合物中的至少一种感光碱性化合物;和 d)溶剂组分。
         

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