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分 类 号：
C23C16/54
颁 证 日：
优 先 权：
2000.3.6 KR 2000/11004
申请(专利权)人：
LG电子株式会社
地 址：
韩国汉城
发 明 (设计)人：
郑永万;李守源;尹东植
国 际 申 请：
CT/KR01/00321 2001.3.2
国 际 公 布：
WO01/66823 英 2001.9.13
进入国家日期：
2002.09.05
专利 代理 机构：
中原信达知识产权代理有限责任公司
代 理 人：
丁业平;王维玉
摘要
本发明提供了一种等离子聚合装置，其包括至少一个室，在该室中要涂布的片可以连续移动；至少一个向该室供应反应性气体的气体入口；和至少一个将反应性气体排出该室的气体出口，其中气体入口和气体出口以这样的方式设置在室上，即反应性气体的流动方向基本上与板的移动方向平行。
主权项
权利要求书
1.一种用于等离子聚合装置的供气和排气系统，在所述聚合装
置中基材连续移动，该系统包括：
气体入口，用于向聚合室供应气体，和
气体出口，用于排出经气体入口供应的反应性气体，
其中气体入口和气体出口以这样的一种方式设置，即，使反应性
气体的流动基本上与基材的移动方向平行。
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