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>分 类 号:
G02B27/10;G02B27/42;G02B3/08
颁 证 日:
优 先 权:
申请(专利权)人:
吴韦建
地 址:
610000四川省成都市成华区建设北路二段4号附5号
发 明 (设计)人:
吴韦建
国 际 申 请:
国 际 公 布:
进入国家日期:
专利 代理 机构:
成都虹桥专利事务所
代 理 人:
杨冬
摘要
本发明公开了一种光栅分光系统,包括刻有若干条闪耀角为θ的刻痕的透射式闪耀光栅和微透镜,所述微透镜为微透镜阵列。利用这种分光系统能够得到特定波长的光强分布图像,且单色光的能量集中,谱线宽度窄。这种分光系统还可以由多种不同倾角的刻痕的透射式闪耀光栅和微透镜阵列所组成,这样可得到多幅特定波长的光强分布图像,本发明所述分光系统可广泛应用于红外线或紫外线等探测成像和摄像、显示等其它分光系统中。
主权项
权利要求书
1、一种光栅分光系统,包括刻有若干条闪耀角为θ的刻痕的透射式
闪耀光栅和微透镜,其特征在于:所述微透镜为微透镜阵列。
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