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    电光学装置及其制造方法和电子设备<%=id%>


    分 类 号: G02F1/133;G02F1/1343;G02F1/136
    颁 证 日:
    优 先 权: 2001.10.4 JP 309102/2001;2002.9.10 JP 264520/2002
    申请(专利权)人: 精工爱普生株式会社
    地 址: 日本东京都
    发 明 (设计)人: 村出正夫
    国 际 申 请:
    国 际 公 布:
    进入国家日期:
    专利 代理 机构: 中国专利代理(香港)有限公司
    代 理 人: 马铁良;叶恺东
    摘要
      电光学装置配有在TFT阵列基片上被配置在图像显示区域内的像素电极;被配置在位于图像显示区域外围的外围区域、构成外围电路的TFT;按照至少部分覆盖外围区域的原则被形成的保护膜。保护膜不被设置在图像显示区域内的各像素开口区域的至少一部分。这样,在液晶装置等电光学装置中,通过用保护膜保护被设置到基片上的晶体管等电子元件,可延长装置寿命,同时可防止由于该保护膜的存在引起的显示图像的质量下降。
    主权项
      权利要求书 1.一种电光学装置,其特征是:配有 被配置在基片上的图像显示区域的显示用电极; 被配置在位于上述图像显示区域外围的外围区域、构成外围电路 的电子元件; 按照至少部分覆盖上述外围区域的原则而被形成的保护膜, 上述保护膜不被设置在上述图像显示区域内的各像素开口区域的 至少一部分。
         

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