灰调掩模制作方法、灰调掩模和图形转印方法<%=id%>

分类号： G03F1/08;G03F7/16 05B1/00
颁证日：
优先权： 2001.9.28 JP 304456/2001;2002.9.2 JP 256531/2002
申请(专利权)人：保谷株式会社
地址：日本东京
发明 (设计)人：井村和久
国际申请：
国际公布：
进入国家日期：
专利代理机构：北京三友知识产权代理有限公司
代理人：李辉
摘要
　一种制作灰调掩模的方法，在至少部分具有预定灰调图形的灰调掩模上能满足预定灰调图形的尺寸精度。在灰调掩模的制作过程中，将在衬底上涂覆的光刻胶膜厚的面内分布抑制到等于或小于±1％。
主权项
　权利要求书 1.一种制作灰调掩模的方法，该灰调掩模具有一遮光部分，一透光部分和作为一由遮光图形形成的区域的灰调部分，该遮光图形的图形尺寸等于或小于使用掩模的曝光装置的分辨率极限以减小透过该区的曝光量，所述形成灰调掩模的方法包括如下步骤：制备其上有遮光膜的透明衬底；在遮光膜上形成光刻胶膜，在形成灰调部分的区域中光刻胶膜厚度的面内分布被抑制在等于或小于±1％；用包括灰调图形数据的图形数据对光刻胶膜构图；对光刻胶膜显影，从而形成光刻胶图形；用这一光刻胶图形作为掩模来刻蚀该遮光膜；剥离光刻胶图形。

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