|
|
|
|
|
|
|
颁 证 日:
优 先 权:
2001.9.21 JP 289743/2001
申请(专利权)人:
株式会社东芝
地 址:
日本东京
发 明 (设计)人:
野昌史;奥村勝弥;小谷敏也;池田隆洋
国 际 申 请:
国 际 公 布:
进入国家日期:
专利 代理 机构:
北京市中咨律师事务所
代 理 人:
李峥;陈海红
摘要
本发明的掩模交易系统和方法通过掩模购买者与掩模销售者之间密切的信息交换,可以更正确地判断掩模可否。掩模交易系统的主机装置20,具有通过网络与购买者进行信息交换的购买代理22、和与销售者进行信息交换的销售代理24。将通过购买代理22输入的包括掩模规格的掩模制作订购,存储于制作订购文件42中。主机装置20还具有存储显示掩模制品中图案拐角部的二维形状的形状图像的图像数据文件50。形状图像通过销售代理24输入。形状图像通过销售代理22,由图像提供部36提供给掩模购买者。
主权项
权利要求书
1、一种用于交易制造半导体装置用的光掩模的系统,其特征在于,
该系统包括:
购买中介部,用于通过网络与掩模购买者进行信息交换;
销售中介部,与掩模销售者进行信息交换;
制作订购存储部,用于存储包括通过上述购买中介部输入的掩模规格
的掩模订购;
图像存储部,用于存储通过上述销售中介部输入的形状图像,该形状
图像为依据上述掩模规格在掩模制造工厂制作的掩模制品中,显示图案拐
角部分的二维形状的形状图像;以及
图像提供部,用于通过上述购买中介部向上述掩模购买者提供上述形
状图像。
|
|
|
|
设为首页 | 加入收藏 | 广告服务 | 友情链接 | 版权申明
Copyriht 2007 - 2008 © 科普之友 All right reserved |