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    电解抛光方法<%=id%>


    分 类 号: H01L21/306;H01L21/465;C25F3/16;C25F7/00
    颁 证 日:
    优 先 权: 2001.10.3 JP 307608/2001
    申请(专利权)人: 株式会社东芝
    地 址: 日本东京
    发 明 (设计)人: 松井嘉孝;小助川広志;小寺雅子
    国 际 申 请:
    国 际 公 布:
    进入国家日期:
    专利 代理 机构: 北京市中咨律师事务所
    代 理 人: 李峥;陈海红
    摘要
      通过在电解液内在阳电极与反电极之间施加电压,同时使所述阳电极与靶材料的表面接触,电解抛光靶材料。阳电极由一种电极材料形成,在使用恒电势器的电化学测量中,在0.1M的高氯酸溶液内,相对于银/氯化银电极,施加+2.5V电压时,该电极材料具有不高于10mA/cm2的电流密度。
    主权项
      权利要求书 1.一种电解抛光方法,包括在电解液内跨阳电极与反电极施加电压, 同时使所述阳电极与靶材料的表面接触,从而电解抛光靶材料;其中所述 阳电极由一种电极材料形成,在使用恒电势器的电化学测量中,在0.1M 的高氯酸溶液内,相对于银/氯化银电极,施加+2.5V电压时,该电极材料 具有不高于10mA/cm2的电流密度。
         

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