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    阴沟装置的盖<%=id%>

    日:
    优 先 权:
    申请(专利权)人: 泰特拉处理技术,塞温塔兰托服务公司
    地 址: 美国佛罗里达州
    发 明 (设计)人: 萨瓦赫·E·斯图尔特
    国 际 申 请:
    国 际 公 布:
    进入国家日期:
    专利 代理 机构: 中国商标专利事务所
    代 理 人: 万学堂
    摘要
      阴沟装置的盖子,该盖子具有确定一开口的接受充填材料的顶表面,顶表形成包围开口的隆起,盖子包括顶部、底部和周边边缘,周边边缘包括用于与隆起互锁的肋,阴沟装置的隆起可以具有垂直于顶表面的法兰,同时盖子上的肋用于紧密地安装在法兰之上,因此肋与法兰互锁。另一方面,过滤器系统的阴沟装置包括中空的塑料壳,该塑料壳包括确定开口的接受充填材料的顶壁,顶壁形成围绕开口的隆起同时盖子密封顶壁中的开口,盖子包括构成U形肋的周边边缘,U形肋具有锁紧装置以便紧密地安装地隆起上面,因此肋与隆起互锁从而密封开口。
    主权项
      权利要求书 1.阴沟装置的一个盖子,阴沟装置包括一柄表面确定一个开口以便接受充填材 料,顶表面形成一个围绕开口的隆起,盖子包括: 顶部、底部和一周边边缘,周边边缘包括一个用于与隆起互锁的肋以便关闭开 口。
         

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