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日：
优 先 权：
2001.10.5 JP 309902/2001
申请(专利权)人：
秋田县
地 址：
日本秋田县
发 明 (设计)人：
赤上阳一;佐藤祐吉;山本亲庆
国 际 申 请：
国 际 公 布：
进入国家日期：
专利 代理 机构：
中国国际贸易促进委员会专利商标事务所
代 理 人：
张祖昌
摘要
一种抛光设备，包括由多个电极元件组成的电极，电极驱动装置和分布在电极与工件之间的电介质研磨粒。抛光压力通过交流电压加到电极上时产生的库仑力施加到研磨粒上。
主权项
权利要求书
1.一种抛光设备，包括由多个电极元件组成的电极，驱动电极的驱
动装置和具有介电性能的研磨粒，这些研磨粒分布在电极与工件之间，
且在由交流电压加到电极而产生的库仑力施加加工压力的位置上。
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