紫外光子复合辉光放电化学气相沉积制备金刚石薄膜的方法<%=id%>

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颁证日：
优先权：
申请(专利权)人：黑龙江省光电技术研究所
地址： 157000黑龙江省牡丹江市光华街106-1号
发明 (设计)人：申家镜;彭鸿雁;邵春雷;魏雪峰
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专利代理机构：
代理人：
摘要
　紫外光子复合辉光放电化学气相沉积制备金刚石薄膜的方法，其特征是，它是用紫外光对直流辉光放电化学气相沉积金刚石膜反应腔中的生长衬底表面进行照射。用该方法制备金刚石薄膜具有生长速度快和质量高的优点。
主权项
　权利要求书紫外光子复合辉光放电化学气相沉积制备金刚石薄膜的方法，其特征是，它是用紫外光对直流辉光放电化学气相沉积金刚石膜反应腔中的生长衬底表面进行照射。

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