|
|
|
|
|
|
|
|
分 类 号：
G02B1/11
颁 证 日：
优 先 权：
2001.10.18 JP 2001－320569;2002.9.13 JP 2002－268043
申请(专利权)人：
日东电工株式会社
地 址：
日本大阪府
发 明 (设计)人：
宫武稔;增田友昭;重松崇之;吉冈昌宏
国 际 申 请：
国 际 公 布：
进入国家日期：
专利 代理 机构：
中科专利商标代理有限责任公司
代 理 人：
柳春琦
摘要
本发明涉及一种抗反射膜，其具有直接在透明基质的一面或通过其它层制备的硬涂层，并进一步将抗反射层层压在硬涂层的表面上，其中的抗反射层由从下列溶液获得的干燥固化膜制成，该溶液含：硅氧烷寡聚物(A)，其通过可水解的烷氧硅烷部分水解后的缩聚反应获得，该烷氧硅烷含基本成分为通式(1)：Si(OR)4(其中R表示甲基或乙基)的四烷氧硅烷，和具有氟代烷基结构和聚硅氧烷结构的化合物(B)，该抗反射膜具有优良的防划性和耐污染性，且在相对短的时间内和相对低的温度下固化。
主权项
权利要求书
1.一种抗反射膜，具有直接在透明基质的一面或通过其它层制备的
硬涂层，并进一步将抗反射层层压在硬涂层的表面上，
其中抗反射层由从下列溶液获得的干燥固化膜制成，该溶液包含：
硅氧烷寡聚物(A)，其通过可水解的烷氧硅烷部分水解后的缩聚反
应获得，该烷氧硅烷含基本成分为通式(1)：Si(OR)4(其中R表示甲基
或乙基)的四烷氧硅烷；
以及化合物(B)，该化合物具有氟代烷基结构和聚硅氧烷结构。
|
|
|
|
|
设为首页 | 加入收藏 | 广告服务 | 友情链接 | 版权申明
Copyriht 2007 - 2008 © 科普之友 All right reserved |
