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分 类 号：
G02F1/1337 05D5/00
颁 证 日：
优 先 权：
2001.10.16 JP 317965/2001
申请(专利权)人：
大日本印刷株式会社
地 址：
日本东京都
发 明 (设计)人：
梅谷雅规
国 际 申 请：
国 际 公 布：
进入国家日期：
专利 代理 机构：
中国专利代理(香港)有限公司
代 理 人：
刘宗杰;王忠忠
摘要
本发明的课题是，在带取向膜12的玻璃基板11上涂敷放射线固化型液晶，形成未固化状态的第1胆甾型液晶膜13(图2(a))。接着，经过光掩模14，在第1胆甾型液晶膜13的任意部分上有选择地照射放射线20，使第1胆甾型液晶膜13部分地固化以后(图2(b))，使其接触有机溶剂22，去除掉未固化部分13b(图2(c))，形成所希望图形的第1胆甾型液晶膜13(图2(d))。然后，用同样的方法，在第1胆甾型液晶膜13的表面及取向膜12的表面上，涂敷放射线固化型液晶，形成未固化状态的第2胆甾型液晶膜13’(图2(e))，经过放射线20的照射(图2(f))以及与有机溶剂22的接触(图2(g))的各工序，去除掉未固化部分13b’。由此，制造形成了所希望图形的胆甾型液晶膜13、13’的光学元件10(图2(h))。
主权项
权利要求书
1.一种光学元件的制造方法，其特征在于：
具备：
在具有取向能的基体材料的表面涂敷第1放射线固化型液晶，形成
未固化状态的第1液晶膜的第1工序；
在上述第1液晶膜的任意部分上有选择地照射放射线，使上述第1
液晶膜部分地固化的第2工序；
使部分固化了的上述第1液晶膜接触有机溶剂，去除掉上述第1
液晶膜中未固化部分，形成预定图形的第1液晶膜的第3工序；
涂敷第2放射线固化型液晶，使之覆盖因未固化部分的去除而残留
的上述第1液晶膜的表面，形成预定图形的第2液晶膜的第4工序，
在上述第2工序中，使上述第1液晶膜中照射了放射线的部分在上
述第1放射线固化型液晶固化为90％以上的状态下固化，使得在上述
第4工序中维持涂敷了第2放射线固化型液晶的上述第1液晶膜表面
的取向能。
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