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焦点监测用光掩模、监测方法、监测装置及其制造方法<%=id%> |
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F9/00
颁 证 日：
优 先 权：
2001.10.15 JP 316718/2001
申请(专利权)人：
三菱电机株式会社
地 址：
日本东京都
发 明 (设计)人：
中尾修治;宫本由纪;玉田尚久;前岛伸六
国 际 申 请：
国 际 公 布：
进入国家日期：
专利 代理 机构：
中国专利代理(香港)有限公司
代 理 人：
刘宗杰;叶恺东
摘要
本发明的焦点监测用光掩模5包括透过曝光光的基板5a和聚焦监测用单元掩模结构Q。焦点监测用单元掩模结构Q具有在基板5a的表面上形成的2个位置测量用图形5b1、5b2，以及在基板5a的背面形成的、而且具有使对2个位置测量用图形5b1、5b2的曝光光的入射方向产生实质性差异用的背面图形5d的遮光膜5c。当假定背面图形5d的尺寸为L，曝光光的波长为λ时，L/λ为10以上。
主权项
权利要求书
1.一种焦点监测用光掩模，为了在图形曝光时使光学图像的焦
面与被曝光面一致，用于测量被曝光面的光学系统的位置的焦点监
测，其特征在于：
配备有透过曝光光的基板和焦点监测用单元掩模结构，
上述焦点监测用单元掩模结构具有：
测量在上述基板表面上形成的相互的位置关系用的2个位置测量
用图形；以及
在上述基板的背面形成的、而且具有使对上述2个位置测量用图
形的曝光光的入射方向产生实质性差异用的背面图形的遮光膜，
而且当假定上述背面图形的尺寸为L，曝光光的波长为λ时，L/λ
为10以上。
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