设备管理系统和方法、半导体曝光设备及其管理方法、半导体器件的制造方法<%=id%>

3F9/02
颁证日：
优先权： 2001.10.17 JP 319452/2001
申请(专利权)人：佳能株式会社
地址：日本东京
发明 (设计)人：稻秀树;铃木武彦;千德孝一;松本隆宏
国际申请：
国际公布：
进入国家日期：
专利代理机构：中国国际贸易促进委员会专利商标事务所
代理人：杜日新
摘要
　在运行中，管理作为管理对象设备的设备管理方法，设定用于运行作为管理对象设备的参数(S205)；按照该设定的参数，运行设备(S220)；在该设备的运行中检查运行设备的结果的检查(S225)。从表示对由检查求出的第1参数值的运行结果的第1评价量，和按照与第1参数值不同的第2参数值(S215)表示运行结果的第2评价量(S210、S230)中决定参数值(S255、S260)。把第1参数值更新为决定的参数值，按照该更新后的参数值运行设备。
主权项
　权利要求书 1、一种管理设备的系统，包括：设定用于运行上述设备参数值的设定装置；按照由上述设定装置设定的第1参数值，运行上述设备的运行装置；检查上述设备运行结果的检查装置；从表示按照由上述检查求出的第1参数值的运行结果的第1评价量和表示按照与不进行上述检查求出的第1参数值不同的第2参数值的运行结果的第2评价量中决定参数值的决定装置，在这里，上述设定装置把上述参数值，作为由上述决定装置决定的参数值，上述运行装置，按照由上述决定装置决定的参数值，运行上述设备。

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